旋转式无掩膜光刻系统：原理、性能与多元应用探索.docx

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2026-01-06 发布于上海
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旋转式无掩膜光刻系统：原理、性能与多元应用探索

一、引言

1.1研究背景

在现代科技飞速发展的进程中，光刻技术作为微纳加工领域的核心技术，在半导体、微机电系统（MEMS）、光电子器件等众多关键领域扮演着举足轻重的角色，是推动这些领域持续创新与进步的关键因素。

在半导体领域，光刻技术堪称整个芯片制造流程的核心环节，其重要性不言而喻。芯片制造是一个极其复杂且精密的过程，涉及众多工序，而光刻环节不仅占据了芯片制造成本的约30%，更是耗费了整个硅片工艺40%-60%的时间，成为芯片量产过程中的核心瓶颈。从技术复杂度来看，光刻机融合了精密光学、机械、化学等多学科的前沿技术，其研发和制造难度极高