集成电路制造工艺 课件 10.2 CMOS工艺流程.pptx

集成电路制造工艺

--CMOS工艺流程单位：江苏信息职业技术学院微电子教研室

第十章CMOS集成电路制造工艺CMOS结构及工作原理CMOS工艺流程CMOS其他相关工艺本章要点

第十章CMOS集成电路制造工艺CMOS结构及工作原理CMOS工艺流程CMOS其他相关工艺本章要点

1.衬底硅材料选择，阱区形成P-Si衬底（a）衬底准备（b）一次氧化（c）n-阱光刻（第一次光刻）n-阱n-阱n-阱（d）n-阱注入（e）推进后形成阱区（f）去除氧化层后的阱区§10.2CMOS工艺流程

2.有源区形成（a）生成薄氧化层和氮化硅层（b）光刻有源区（第二次光刻）（c）