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基于等离子体刻蚀的2025芯片制造视觉监测.docx

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    毕业设计（论文）

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    毕业设计（论文）报告

    题目：

    基于等离子体刻蚀的2025芯片制造视觉监测

    学号：

    姓名：

    学院：

    专业：

    指导教师：

    起止日期：

    基于等离子体刻蚀的2025芯片制造视觉监测

    摘要：随着半导体技术的不断发展，芯片制造工艺逐渐向纳米级别迈进。等离子体刻蚀作为关键工艺之一，在芯片制造中扮演着至关重要的角色。本文针对等离子体刻蚀工艺中的视觉监测问题，提出了一种基于深度学习的视觉监测方法。该方法通过构建深度神经网络模型，实现了对等离子体刻蚀过程中的实时监测和缺陷识别。实验结果表明，该方法能够有效提高芯片制造过程中的良率

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