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《ArF浸没式光刻胶小分子浸出速率测量方法编制说明》.pdf

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    国家标准《ArF浸没式光刻胶的小分子浸出速率测量方法》

    （征求意见稿）编制说明

    一、工作简况

    （一）任务来源

    国家标准计划《ArF浸没式光刻胶的小分子浸出速率测量方法》，由TC203（全

    国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口并组织执行。计划编T-469，

    项目周期16个月。

    （二）制定背景

    ArF光刻是当前全球产业应用量最大的先进光刻技术，ArF浸没式光刻胶可支撑最

    高7nm工艺，是我国产业发展的重点。ArF浸没式光刻胶是我国产业链严重受限制环

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