高端光刻机辅助设备运维技师（中级）考试试卷及答案.docVIP

高端光刻机辅助设备运维技师（中级）考试试卷及答案

一、填空题（每题1分，共10分）

1.高端光刻机辅助设备中，常用的高真空核心部件是______泵。

2.浸没式光刻机去离子水电阻率要求不低于______MΩ·cm。

3.气路系统过滤微尘的核心部件是______过滤器。

4.激光对准系统校准周期一般为______个月。

5.温控系统精度需控制在±______℃以内。

6.真空锁腔主要减少______时间。

7.检测气体纯度的仪器是______分析仪。

8.匀胶机转速范围通常可达______rpm以上。

9.气动元件密封件常用材质是______。

10.故障代码E001通常代表______系统故障。

二、单项选择题（每题2分，共20分）

1.高真空环境常用泵是？

A.离心泵B.分子泵C.齿轮泵D.柱塞泵

2.去离子水滤芯更换周期一般为？

A.1个月B.3个月C.6个月D.12个月

3.不属于温控异常的是？

A.温度波动±0.2℃B.加热棒不启动C.冷却液泄漏D.传感器漂移

4.光刻机氮气纯度需达到？

A.99%B.99.9%C.99.999%D.99.9999%

5.断电操作正确顺序是？

A.先断负载再断电源B.先断电源再断负载C.直接断电D.无顺序

6.真空泄漏检测常用方法是？

A.肥皂水法B.红外检测C.氦质谱检漏D.水压试验

7.匀胶机核心部件是？

A.电机B.胶杯C.喷嘴D.传感器

8.导致光刻精度下降的故障是？

A.气路微尘超标B.水温正常C.真空度达标D.校准正常

9.日常点检不包括？

A.压力读数B.温度记录C.零件更换D.泄漏检查

10.维护记录应保存至少？

A.1年B.2年C.3年D.5年

三、多项选择题（每题2分，共20分）

1.真空系统组成包括？

A.分子泵B.机械泵C.真空计D.过滤器

2.温控系统维护要点包括？

A.检查冷却液液位B.校准传感器C.清理换热器D.更换加热棒

3.前处理设备包括？

A.匀胶机B.显影机C.清洗机D.光刻机本体

4.故障排查需记录的信息包括？

A.故障时间B.现象C.操作步骤D.维修结果

5.气路安全要求包括？

A.定期检漏B.过滤微尘C.控制流量D.接地保护

6.分子泵维护注意事项包括？

A.避免撞击B.定期润滑C.检查转速D.断电后立即拆卸

7.去离子水检测项目包括？

A.电阻率B.颗粒数C.pH值D.细菌数

8.校准项目包括？

A.激光对准精度B.真空度校准C.温度校准D.转速校准

9.故障类型包括？

A.机械故障B.电气故障C.气路故障D.软件故障

10.维护工具包括？

A.万用表B.检漏仪C.校准仪D.扳手

四、判断题（每题2分，共20分）

1.分子泵可在大气压下启动。（）

2.去离子水电阻率越高越好。（）

3.冷却液可用自来水代替。（）

4.气路过滤器无需定期更换。（）

5.真空锁腔减少抽真空时间。（）

6.匀胶机转速越高胶膜越厚。（）

7.维护记录只需记录故障维修。（）

8.氦质谱检漏是真空泄漏常用方法。（）

9.密封件可用普通橡胶代替。（）

10.断电后需等待10分钟再维护。（）

五、简答题（每题5分，共20分）

1.简述真空系统日常维护要点。

2.说明温控异常的常见原因及排查步骤。

3.简述去离子水系统维护周期及检测项目。

4.说明故障排查基本流程。

六、讨论题（每题5分，共10分）

1.讨论如何预防辅助设备机械故障？

2.分析气路泄漏对工艺的影响及应对措施。

---

参考答案

一、填空题

1.分子2.183.高效（HEPA）4.65.0.16.抽真空7.气体8.100009.氟橡胶10.真空

二、单项选择题

1.B2.B3.A4.D5.A6.C7.A8.A9.C10.C

三、多项选择题

1.ABCD2.ABCD3.ABC4.ABCD5.ABCD6.ABC7.ABCD8.ABCD9.ABCD10.ABCD

四、判断题

1.×2.√3.×4.×5.√6.×7.×8.√9.×10.√

五、简答题

1.①每日检查真空计读数，确认前腔≤1E-3Pa、主腔≤1E-6Pa；②每周检查机械泵油位/油质，发黑则更换；③每月检查分子泵转速（额定30000rpm）；④每季度用氦质谱检漏，重点查法兰/阀门；⑤记录维护后真空度变化，异常排查泄漏或泵故障。

2.常见原因：冷却液泄漏、传感器漂移、加热棒损坏、换热器堵塞。排查步骤：①查看温控面板波动；②检查冷却液液位并检漏；③万用表测传感器电阻对比标定值；④测加热棒电阻确认断路；⑤清理换热器，异常查循环泵。

3.维护周期：滤芯3个月、树脂再生6个月、系统清洗12个月。检测项目：电阻率≥18MΩ·cm、颗粒数≤10个/L（≥0.1μm）、pH6.5-7.5、细菌数≤1CFU/mL。

4.①确认故障现象（时间、表现）；②初步定位系统（真空/温