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剥离抗蚀剂，全球前12强生产商排名及市场份额（by QYResearch）.pdf

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    全球市场研究报告

    剥离抗蚀剂产品描述

    剥离抗蚀剂是一种用于微加工工艺的光刻胶。光刻胶是一种感光材料，用于在微电子和微机电系统(MEMS)

    制造过程中将图案转移到基板上。LOR光刻胶通常用于剥离工艺，这是一种图案转移技术。在此工艺中，

    首先将一层LOR光刻胶涂覆到基板上。然后，光刻胶通过图案化的掩模版曝光，使其选择性交联。显影后，

    去除光刻胶的曝光区域，留下图案层。剩余的图案化LOR光刻胶可作为后续工艺步骤（例如蚀刻或材料沉

    积）的掩模。完成所需的工艺步骤后，可以使用溶剂轻松剥离LOR光刻胶，留下图案化的基板。

    图.剥离抗蚀剂产品图

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