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面内单轴各向异性FeGa薄膜：制备工艺、磁性机理与应用前景

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代信息技术与传感领域，磁性薄膜作为关键基础材料，发挥着举足轻重的作用，对推动各类磁性器件的性能提升和功能拓展意义非凡。随着信息技术朝着高速、大容量、小型化方向飞速发展，对信息存储和处理的磁性薄膜材料提出了更高要求。在硬盘存储中，薄膜磁性材料的磁性能直接关乎存储密度与读写速度，更高的磁各向异性和低矫顽力有助于实现更高密度的数据存储以及更快的数据读写。

在传感器领域，磁性薄膜是构成高灵敏度、微型化传感器的核心元件。基于磁致伸缩效应的薄膜传感器，可将磁场变化精准转换为电信号，用于生物医学检测、环境监测、安全检测等领域，实现对微弱磁场信号的高灵敏度检测。在生物医学检测中，能够检测生物分子的磁性标记，助力疾病早期诊断；在环境监测里，可对环境中的微弱磁场变化做出响应，监测污染物浓度等。

面内单轴各向异性FeGa薄膜作为一种极具潜力的磁性薄膜材料，因其独特的磁性能备受关注。FeGa合金本身具备较高的磁致伸缩系数和饱和磁化强度，在FeGa薄膜中引入面内单轴各向异性，能进一步优化其磁性能。这种各向异性使薄膜在特定方向上展现出优异的磁性，在应用于磁性传感器时，可显著提高传感器的灵敏度和选择性，使其对特定方向的磁场变化更为敏感，有效降低外界干扰，提升检测准确性；应用于信息存储领域时，能够实现更稳定、更高密度的信息存储，提高存储器件的性能和可靠性。深入研究面内单轴各向异性FeGa薄膜的制备工艺与磁性，对于推动磁性器件性能提升，满足信息技术和传感领域不断增长的需求，具有至关重要的现实意义和广阔的应用前景。

1.2FeGa薄膜研究现状

近年来，FeGa薄膜的研究取得了显著进展。在制备方法上，磁控溅射、脉冲激光沉积、分子束外延等多种物理气相沉积技术被广泛应用。磁控溅射法凭借其设备简单、沉积速率快、可制备大面积薄膜等优势，成为目前制备FeGa薄膜的常用方法。通过磁控溅射，研究人员成功制备出具有不同成分和结构的FeGa薄膜，并对其磁性能进行了深入研究。脉冲激光沉积则能够精确控制薄膜的成分和厚度，制备出高质量的FeGa薄膜，尤其适用于研究薄膜的生长机制和微观结构与磁性能的关系。分子束外延可实现原子级别的薄膜生长控制，为制备具有特殊结构和性能的FeGa薄膜提供了可能。

在磁性研究方面，众多学者聚焦于FeGa薄膜的磁致伸缩性能、饱和磁化强度、矫顽力等关键磁性能的研究。研究发现，FeGa薄膜的磁性能与薄膜的成分、晶体结构、微观形貌密切相关。通过调整制备工艺参数，如溅射功率、气压、衬底温度等，可以有效调控薄膜的成分和结构，进而优化其磁性能。适当提高溅射功率可增加薄膜的沉积速率，改变薄膜的晶体结构，从而影响其磁致伸缩性能和饱和磁化强度；改变衬底温度会影响薄膜的生长模式和结晶质量，对矫顽力等磁性能产生显著影响。

尽管目前在FeGa薄膜的制备与磁性研究方面已取得诸多成果，但仍存在一些不足之处。在制备过程中，精确控制薄膜的面内单轴各向异性仍面临挑战，各向异性的调控机制尚未完全明晰，导致难以稳定地制备出具有理想各向异性的FeGa薄膜。不同制备方法对薄膜微观结构和磁性能的影响规律还需进一步深入研究，以实现对薄膜性能的精准调控。在磁性研究方面，对于FeGa薄膜在复杂环境下的磁性能稳定性以及与其他材料复合后的磁性能变化研究相对较少，限制了其在实际应用中的推广。

本文旨在针对当前研究的不足，深入探究面内单轴各向异性FeGa薄膜的制备工艺，系统研究制备工艺参数对薄膜微观结构和磁性能的影响规律，明确面内单轴各向异性的形成机制和调控方法。通过优化制备工艺，制备出具有优异磁性能的面内单轴各向异性FeGa薄膜，并对其在不同环境下的磁性能稳定性进行研究，为其在磁性器件中的实际应用提供理论支持和技术指导。

二、面内单轴各向异性FeGa薄膜的制备

2.1制备材料与原理

2.1.1制备材料

制备面内单轴各向异性FeGa薄膜时，所需材料主要包括衬底和FeGa合金靶材。

衬底材料的选择对薄膜的生长和性能有着关键影响。常见的衬底有硅（Si）衬底、玻璃衬底、蓝宝石（Al?O?）衬底等。硅衬底具有良好的晶体质量和电学性能，与半导体工艺兼容性强，能够为薄膜生长提供稳定的晶格结构，有利于精确控制薄膜的生长取向和质量，在微电子器件应用中，硅衬底上生长的FeGa薄膜可方便地与其他硅基器件集成。玻璃衬底成本较低，易于加工成各种形状和尺寸，光学透明性好，适合对光学性能有要求的应用，如磁光传感器中，玻璃衬底能保证光线透过，便于检测磁光效应。蓝宝石衬底具有较高的硬度和化学稳定性，其晶格结构与FeGa薄膜有一定的匹配度，有助于薄膜的外