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半导体湿电子化学品研发工程师岗位招聘考试试卷及答案

填空题

1.半导体清洗中最基础的湿电子化学品是______。

2.用于刻蚀二氧化硅（SiO?）的常用酸是______。

3.25℃时超纯水的理论电阻率为______。

4.SC1清洗液的主要组成为______。

5.SC2清洗液的主要组成为______。

6.CMP浆料中常用的磨粒材料是______（写一种）。

7.光刻胶剥离液的核心成分是______。

8.湿电子化学品需控制的关键指标包括金属杂质、______、水分等。

9.半导体级化学品中金属杂质的典型控制标准为______级别。

10.用于去除晶圆表面光刻胶残留的化学品是______。

答案：

1.超纯水（UPW）

2.氢氟酸（HF）

3.18.2MΩ·cm

4.氨水-双氧水-水（NH?OH-H?O?-H?O）

5.盐酸-双氧水-水（HCl-H?O?-H?O）

6.纳米二氧化硅（SiO?）/氧化铝（Al?O?）

7.有机溶剂（如NMP、DMSO）

8.颗粒数

9.10ppt（皮克/升）

10.光刻胶剥离液

单项选择题

1.以下哪种清洗液主要去除晶圆表面有机物和金属杂质？

A.SC1B.SC2C.HFD.超纯水

2.刻蚀单晶硅（Si）的常用混合酸是？

A.HCl+H?O?B.HNO?+HFC.H?SO?+H?O?D.CH?COOH+H?O?

3.湿电子化学品纯度等级最高的是？

A.工业级B.电子级（EL）C.UPSS级D.化学纯（CP）

4.CMP浆料中磨粒的典型粒径范围是？

A.10-100nmB.1-10μmC.0.1-1mmD.100-1000nm

5.以下哪种化学品属于刻蚀液？

A.氨水B.双氧水C.磷酸（H?PO?）D.异丙醇

6.超纯水制备的关键步骤不包括？

A.反渗透（RO）B.蒸发结晶C.电去离子（EDI）D.紫外氧化（UV）

7.湿电子化学品中对器件性能影响最大的杂质是？

A.金属杂质B.有机杂质C.颗粒D.水分

8.以下哪种清洗液可去除晶圆表面的颗粒污染？

A.SC1B.HFC.超纯水D.所有上述选项

9.光刻胶剥离液的作用不包括？

A.溶解光刻胶B.去除残留金属C.刻蚀SiO?D.清洗晶圆

10.湿电子化学品的包装材料通常选用？

A.不锈钢B.PFA/PTFEC.玻璃D.塑料（PVC）

答案：

1.A2.B3.C4.A5.C6.B7.A8.D9.C10.B

多项选择题

1.湿电子化学品的关键质量指标包括？

A.金属杂质含量B.颗粒数C.水分D.密度

2.SC1清洗液的组成成分有？

A.NH?OHB.HClC.H?O?D.超纯水

3.用于去除晶圆表面有机物的清洗液有？

A.SC2B.SC1C.臭氧水D.HF

4.CMP浆料的核心组成部分包括？

A.磨粒B.分散剂C.氧化剂D.粘接剂

5.半导体制造中常用的湿电子化学品类型有？

A.清洗液B.刻蚀液C.剥离液D.CMP浆料

6.刻蚀铝（Al）的常用试剂有？

A.H?PO?B.HNO?C.CH?COOHD.HF

7.超纯水的质量控制指标包括？

A.电阻率B.TOC（总有机碳）C.颗粒数D.pH值

8.湿电子化学品需满足的要求有？

A.高纯度B.低颗粒污染C.强腐蚀性D.良好稳定性

9.光刻胶剥离液的常用有机溶剂有？

A.NMP（N-甲基吡咯烷酮）B.DMSO（二甲基亚砜）C.乙醇D.丙酮

10.影响湿电子化学品纯度的因素有？

A.原料纯度B.生产工艺C.包装材料D.存储环境

答案：

1.ABC2.ACD3.BC4.ABC5.ABCD6.AB7.ABCD8.ABD9.AB10.ABCD

判断题

1.HF只能用于刻蚀SiO?，不能刻蚀其他材料。（×）

2.SC2清洗液主要去除晶圆表面的金属杂质。（√）

3.25℃时超纯水的电阻率为18.2MΩ·cm是行业标准。（√）

4.CMP浆料中的磨粒必须为纳米级。（√）

5.光刻胶剥离液不含任何有机溶剂。（×）

6.湿电子化学品的纯度仅需控制金属杂质含量。（×）

7.氨水（NH?OH）可用于调整湿电子化学品的pH值。（√）

8.湿电子化学品可在普通环境下长期存储。（×）

9.硝酸（HNO?）是强氧化剂，可用于CMP浆料。（√）

10.EL级湿电子化学品的纯度高于UPSS级。（×）

简答题

1.简述半导体湿电子化学品中“金属杂质含量”的控制重要性。

答案：金属杂质（如Fe、Cu、Ni等）会在晶圆表面残留，导致器件漏电、性能下降甚至失效。金属杂质易形成深能级缺陷，缩短载流子寿命；高温工艺中还会扩散迁移，破坏器件结构。行业要求金属杂质含量10ppt，需通过提纯（蒸馏、离子交换）、惰性包装（PFA）及超净存储实现控制，直接影响半导体器件良率。

2.说明SC1和SC2清洗液的组成及主要作用。

答案：SC1（氨水-双氧水-水）：去除