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半导体物理习题试卷及答案
考试时间:______分钟总分:______分姓名:______
一、
解释能带形成的原因。为什么在绝缘体和半导体中存在禁带,而在导体中不存在?
二、
简述有效质量的意义及其与能带结构的关系。如何根据能带图判断电子在某个方向上的有效质量是正还是负?
三、
什么是能谷?解释能谷的概念,并说明有效质量、速度和动量在能谷内的关系。
四、
推导理想本征半导体(N型或P型)在热平衡时的电子和空穴浓度关系式(即赛伦-布拉格方程)。
五、
什么是掺杂?分别说明掺杂对半导体本征载流子浓度和电导率有何影响?掺杂浓度过高会有什么现象?
六、
解释载流子的迁移率(μn,μp)的定义。影响n型和p型半导体载流子迁移率的因素有哪些?请分别说明。
七、
简述半导体中电导率的表达式。在温度升高时,本征半导体和掺杂半导体的电导率将如何变化?为什么?
八、
说明什么是肖克利理想PN结的平衡状态。在平衡状态下,PN结内部是否存在电场?是否存在净电流?
九、
当PN结外加正向电压时,其空间电荷区(耗尽层)的宽度将如何变化?解释原因。
十、
当PN结外加反向电压时,其反向电流的特点是什么?简要说明产生反向电流的机制。
十一、
什么是内建电场?在内建电场的作用下,PN结两侧的费米能级是如何分布的?
十二、
简述欧姆定律在半导体中的适用条件。与金属导体相比,半导体器件的欧姆特性有何不同?
十三、
解释半导体的补偿现象。在N型半导体中,如果掺入的施主杂质浓度远大于产生的补偿受主杂质浓度,其导电类型和载流子浓度主要由什么决定?
十四、
什么是半导体的本征激发?影响本征激发产生载流子对数量的主要因素有哪些?
十五、
简要说明掺杂对半导体禁带宽度的影响。为什么?
十六、
推导理想PN结在正向偏置时的电流表达式(即二极管方程)。其中各项物理量的意义是什么?
十七、
解释什么是齐纳击穿和雪崩击穿。这两种击穿机制的物理过程有何不同?影响它们的击穿电压的因素有哪些?
十八、
简述影响半导体PN结反向饱和电流的因素。为什么反向饱和电流通常对温度比较敏感?
十九、
什么是MOS电容?解释其电容公式中各个参数的物理意义。栅极电压对MOS电容有何影响?
二十、
结合能带理论,解释为什么掺杂浓度和温度都会影响半导体的电导率?
试卷答案
一、
答:能带形成是由于晶体中原子间的相互作用(主要是相邻原子核间的库仑吸引和电子间的泡利排斥),使得原来孤立原子中分离的能级发生分裂,形成能带。当原子间距足够近形成晶体时,原子外层电子受到周围大量原子核和电子的作用,其波函数发生重叠。对于相同能量级的电子,某些波矢k值会被禁止,形成禁带。导体中由于价带未满或存在导带,电子可以在没有禁带的情况下自由移动,因此没有禁带。半导体中价带被电子填满,与空的导带之间存在一个较窄的禁带,电子需要获得足够能量才能跃迁到导带。
二、
答:有效质量是描述电子在晶体周期性势场中运动性质的物理量,它代表了电子在晶体中受到的有效惯性。有效质量通过电子在能带中的运动方程(如紧束缚模型中的力常数表达式或能带曲率的定义)计算得到。其与能带结构的关系在于:在能带底的曲率项(d2E/dk2)为正时,有效质量为正,电子表现为正常粒子;在能带顶的曲率项为负时,有效质量为负,电子表现为有效质量反常。根据能带图,若在某个k值附近,能带曲线呈现抛物线状向上弯曲(d2E/dk20),则有效质量为正;若能带曲线呈现向下弯曲(d2E/dk20),则有效质量为负。
三、
答:能谷是指在能带中,电子能量E随波矢k的变化呈现出极小值或极小值区域。能谷代表了电子在该方向上运动时,能量随波矢变化的主要特征。有效质量、速度和动量在能谷内的关系通常遵循类抛物线关系(在能谷附近展开)。在能谷底部,电子的有效质量(m*)通常为正。电子的速度v≈(dE/dk),动量p=hk,在能谷附近,速度和动量也与k近似成正比,但比例系数与有效质量有关。
四、
答:推导思路:从费米-狄拉克统计出发,分别写出本征半导体中电子气体的总能量U_n和空穴气体的总能量U_p。U=∫Eg(1+1/f)g(E)dE,其中g(E)为态密度。利用电子和空穴的简并度关系n/p=exp[(E_f-E_v)/kT],以及E_c-E_f=E_f-E_v=kT(本征)。联立这些关系式,通过能量守恒(U_n+U_p=Nc*kT/2+Nv*kT/2,Nc,Nv为有效态密度),并利用n*p=ni2,可以推导出ni=sqrt(Nc*Nv/(e*ε*kT)),即赛伦-布拉格方程。
五、
答:掺杂是指在纯净的半导体晶体中有控制地掺入少量杂质元素。掺杂对半导体的影响:1.提高载流子浓度:N型掺杂(掺入施主杂质)产生多余电子,显著
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