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基于白光扫描干涉术的微结构大范围表征：方法、挑战与创新

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代制造业、微电子、MEMS以及纳米技术等迅猛发展的浪潮下，微结构的应用愈发广泛，从日常使用的电子产品，到航空航天领域的关键零部件，微结构都扮演着举足轻重的角色。其尺寸精度、表面形貌等参数，对产品的性能、可靠性以及使用寿命有着决定性的影响。例如，在微电子芯片制造中，细微的结构尺寸偏差可能导致芯片性能大幅下降，甚至无法正常工作；MEMS传感器中的微结构精度，则直接关系到传感器的灵敏度和测量精度。

随着技术的不断进步，对微结构的测量要求也日益严苛。传统的测量方法已难以满足高精度、大范围测量的需求。白光扫