WO2025140749A1 一种电化学机械抛光组合物、用途及方法 （昂士特科技(深圳)有限公司）.docxVIP

(12)按照专利合作条约所公布的国际申请

(19)世界知识产权组织国际局

(43)国际公布日

2025年7月3日(03.07.2025)

WIPOIPCT

(10)国际公布号

WO2025/140749A1

(51)国际专利分类号：

C09G1/02(2006.01)H01L21/306(2006.01)

B24B1/00(2006.01)

(21)国际申请号：PCT/CN2025/079392

(22)国际申请日：2025年2月26日(26.02.2025)

(25)申请语言：中文

(26)公布语言：中文

(30)优先权：

202311830244.82023年12月27日(27.12.2023)CN

(71)申请人：昂士特科技(深圳)有限公

司(ADVANCEDNANOSURFACETECHNOLOGIES(SHENZHEN)CO.,LTD.)[CN/CN];中国广东省深

圳市南山区桃源街道长源社区学苑大道1001号南山智园C3栋201518000(CN)。

(72)发明人：祝思源(ZHU,Siyuan);中国广东省深圳市南山区桃源街道长源社区学苑大道1001号南山智园C3栋201518000(CN)。黄嘉琛(HUANG,Jiachen);中国广东省深圳市南山区桃源街道长源社区学苑大道1001号南山智园C3栋201518000(CN)。贾仁合(JIA,Renhe);中国广东省深圳市南山区桃源街道长源社区学苑大道1001号南山智园C3栋201518000(CN)。

(74)代理人：北京留理知识产权代理事务所(普通合伙)(LOYALEEINTELLECTUALPROPERTY);

WO2025/140749A1

WO2025/140749A1

(54)Title:ELECTROCHEMICALMECHANICALPOLISHINGCOMPOSITION,USEANDMETHOD

(54)发明名称：一种电化学机械抛光组合物、用途及方法

图2

(57)Abstract:Thepresentapplicationrelatestothetechnicalfieldofpolishingprocessing.Providedareanelectrochemicalmechanicalpolishingcomposition,theuseandamethod.Theelectrochemicalmechanicalpolishingcompositioncomprisesaliquidcarier,apHregulator,anorganicelectrolyteandchamferedoctahedralceriumoxideabrasiveparticles,whereinthechamferedoctahedralceriumoxideabrasiveparticlesaredispersedintheliquidcarrier.Theratioofthecumulativevolumeofabrasiveparticleshavingaparticlesizeoftwotimesoforhigherthantheaverageparticlesizemeasuredbymeansofascanningelectronmicroscopeinthechamferedoctahedralceriumoxideabrasiveparticlestothecumulativevolumeofabrasiveparticleshavingaparticlesizeoforlowerthantheaverageparticlesizemeasuredbymeansofthescanningelectronmicroscopeinthechamferedoctahedralceriumoxideabrasiveparticlesisatleast0.1.

(57)摘要：本申请提供一种电化学机械抛光组合物、用途及方法，涉及抛光加工技术领域。所述电化学机械