CN115031928B 光学检测系统及其操作方法 （业成光电（深圳）有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN115031928B(45)授权公告日2025.07.04

(21)申请号202210653794.6

(22)申请日2022.06.10

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN115031928A

(43)申请公布日2022.09.09

(73)专利权人业成光电(深圳)有限公司

地址518109广东省深圳市龙华区龙华街

道富康社区东环二路2号富士康工业园E4栋101(原G2区1栋1层)、民清路北深超光电科技园K2区H3厂房、H1厂房、H7厂房

专利权人业成科技(成都)有限公司英特盛科技股份有限公司

(72)发明人施宏欣叶肇懿周蒋云梁哲源

(74)专利代理机构成都希盛知识产权代理有限公司51226

专利代理师苟雅灵

(51)Int.CI.

GO1M11/02(2006.01)

(56)对比文件

CN110389019A,2019.10.29

审查员李腾

权利要求书1页说明书7页附图8页

(54)发明名称

光学检测系统及其操作方法

(57)摘要

CN115031928B一种光学检测系统配置以检测具有第一线偏振片及四分之一波片的待测组件。光学检测系统包括：光源、偏光调整组件以及检测单元。光源具有出光面且配置以发射光线。偏光调整组件朝向光源的出光面。偏光调整组件配置以将光线转换为线性偏振光。第一线偏振片位于偏光调整组件与四分之一波片之间。待测组件配置以将线性偏振光转换为圆偏振光。检测单元位于待测组件背对偏光调整组件的一侧。检测单元配置以根据圆偏振光计算待测组件的第一线偏振片的吸收轴与待测组件的四分之一波片的快轴之间的相差角度。光学检测系统不需输入待测组件的材料

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CN115031928B权利要求书1/1页

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1.一种光学检测系统，配置以检测具有第一线偏振片及四分之一波片的待测组件，其特征在于，该光学检测系统包含：

光源，具有出光面且配置以发射光线；

偏光调整组件，朝向该光源的该出光面，且配置以将该光线转换为线性偏振光，其中该第一线偏振片位于该偏光调整组件与该四分之一波片之间，该待测组件配置以将该线性偏振光转换为圆偏振光，其中该偏光调整组件包含消偏器及第二线偏振片，该消偏器位于该光源与该待测组件的该第一线偏振片之间，且配置以将该光线转换为非偏振光，该第二线偏振片位于该消偏器与该待测组件的该第一线偏振片之间，且配置以将该非偏振光转换为该线性偏振光；以及

检测单元，位于该待测组件背对该偏光调整组件的一侧，且配置以根据该圆偏振光计算该待测组件的该第一线偏振片的吸收轴与该待测组件的该四分之一波片的快轴之间的相差角度。

2.如权利要求1所述的光学检测系统，更包含：

缩束镜，位于该待测组件与该检测单元之间。

3.如权利要求1所述的光学检测系统，其中该四分之一波片的中心波长相同于该光线的波长。

4.如权利要求1所述的光学检测系统，其中该光源为雷射光源。

5.一种光学检测系统的操作方法，其特征在于，包含：

通过光源发射光线至偏光调整组件；

通过该偏光调整组件将该光线转换为线性偏振光并发射至待测组件，包含：

通过该偏光调整组件的消偏器将该光线转换为非偏振光并发射至该偏光调整组件的第二线偏振片；以及

通过该偏光调整组件的该第二线偏振片将该偏振光转换为该线性偏振光并发射至该待测组件，其中该待测组件具有第一线偏振片以及四分之一波片，该第一线偏振片位于该偏光调整组件与该四分之一波片之间；

通过该待测组件将该线性偏振光转换为圆偏振光并发射至检测单元；以及

根据该圆偏振光计算该待测组件的该第一线偏振片的吸收轴与该待测组件的该四分之一波片的快轴之间的相差角度。

6.如权利要求5所述的操作方法，其中根据该圆偏振光计算该相差角度更包含：

旋转该待测组件以获得该待测组件的光强度与旋光强度；以及

根据该光强度与该旋光强度计算该待测组件的最大椭圆偏振率。

7.如权利要求5所述的操作方法，其中根据该圆偏振光计算该相差角度更包含：

旋转该第二线偏振片以获得该待测组件的光强度与旋光强度；以及

根据该光强度与该旋光强度计算该待测组件的最大椭圆偏振率。

8.如权利要求5所述的操作方法，其中通过该待测组件将该线性偏振光转换为该圆偏振光并发射至该检测单元更包含：

通过缩