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- 2026-01-18 发布于山东
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半导体级超纯水制备设备运维技师(高级)考试试卷及答案
一、填空题(共10题,每题1分,共10分)
1.25℃时,半导体级超纯水的电阻率理论值为______MΩ·cm。
2.超纯水预处理中,保安过滤器典型孔径为______μm。
3.反渗透(RO)膜核心作用是去除______和微生物。
4.EDI装置无需______再生,可连续产水。
5.去除TOC的UV灯波长为______nm。
6.阳离子交换树脂去除水中______离子。
7.高纯水电阻率监测电极常数为______cm?1。
8.半导体级超纯水TOC≤______ppb。
9.设备停运超72小时需______保护(如充氮)。
10.活性炭滤器去除水中______和有机物。
二、单项选择题(共10题,每题2分,共20分)
1.25℃时超纯水实际电阻率不低于()
A.15MΩ·cmB.16MΩ·cmC.18MΩ·cmD.18.2MΩ·cm
2.RO膜进水余氯≤()ppm
A.0.1B.0.5C.1D.5
3.不属于预处理的是()
A.砂滤器B.活性炭滤器C.EDID.保安滤器
4.UV灯254nm主要作用()
A.杀菌B.除TOCC.去金属D.降电阻率
5.EDI进水电阻率≥()MΩ·cm
A.0.1B.0.5C.1D.5
6.树脂再生常用酸()
A.盐酸B.硫酸C.硝酸D.醋酸
7.电阻率突降最不可能原因()
A.RO泄漏B.EDI失效C.保安滤堵塞D.树脂污染
8.超纯水0.1μm颗粒数≤()个/mL
A.1B.5C.10D.50
9.酸性清洗剂去除RO膜()
A.有机物B.金属氧化物C.生物D.胶体
10.设备停运后防微生物应()
A.排空B.充空气C.满水D.无需处理
三、多项选择题(共10题,每题2分,共20分)
1.超纯水检测指标()
A.电阻率B.TOCC.颗粒数D.金属离子
2.RO常见故障()
A.产水率降B.电导率升C.膜污染D.压力异常
3.EDI组成()
A.树脂B.阴阳膜C.电极D.浓水室
4.预处理作用()
A.去悬浮物B.去有机物C.降余氯D.去大部分离子
5.UV灯作用()
A.杀菌B.氧化TOCC.去金属D.降浊度
6.树脂污染类型()
A.有机物B.铁C.胶体D.细菌
7.系统维护项目()
A.换保安滤芯B.RO清洗C.EDI再生D.换UV灯
8.TOC超标的原因()
A.UV失效B.活性炭失效C.RO泄漏D.系统污染
9.RO清洗药剂()
A.柠檬酸B.氢氧化钠C.次氯酸钠D.盐酸
10.安全操作注意()
A.接地B.防酸碱泄漏C.查压力D.无需防护
四、判断题(共10题,每题2分,共20分)
1.电阻率越高,超纯水纯度越高。()
2.保安滤芯需定期换,否则污染膜。()
3.RO膜耐高余氯,无需预处理去除。()
4.EDI无需化学再生,连续产水。()
5.UV254nm除TOC,185nm杀菌。()
6.阳离子树脂用NaOH再生。()
7.停运超72小时,排空充氮保护。()
8.TOC超标仅换UV灯即可。()
9.RO进水pH≈7,避免膜损坏。()
10.EDI电流越高,电阻率越高。()
五、简答题(共4题,每题5分,共20分)
1.简述预处理单元核心作用。
2.RO膜污染类型及预防措施。
3.EDI装置工作原理。
4.TOC超标的应急处理步骤。
六、讨论题(共2题,每题5分,共10分)
1.分析电阻率突然下降的原因及排查流程。
2.如何制定年度维护计划?
---
答案部分
一、填空题
1.18.22.53.溶解盐4.化学5.1856.阳(金属)7.0.018.109.停运10.余氯
二、单项选择题
1.D2.A3.C4.A5.C6.A7.C8.A9.B10.A
三、多项选择题
1.ABCD2.ABCD3.ABCD4.ABC5.AB6.ABCD7.ABD8.ABD9.ABCD10.ABC
四、判断题
1.√2.√3.×4.√5.×6.×7.√8.×9.√10.×
五、简答题
1.预处理作用:①去除悬浮物、胶体(砂滤、保安滤);②吸附余氯、有机物(活性炭);③控制浊度≤1NTU,满足RO进水要求,防止后续膜/树脂污染,延长设备寿命。
2.RO污染类型:有机物、金属氧化物、胶体、生物污染。预防:控进水浊度、除余氯、加阻垢剂、定期清洗、停运冲洗。
3.EDI原理:①阴阳膜选择性透离子;②树脂吸附水中离子;③电场使离子向电极迁移,透过膜进入浓水排出;④树脂连续再生,无需化学再生。
4.TOC应急处理:①停供水,启备用;②查UV灯(点亮/寿命);③测活性炭出水TOC;④查RO是否泄漏;⑤换失效滤芯/UV灯,冲洗后复测,合格恢复供水。
六、讨论题
1.电阻率突降原因:RO泄漏、EDI失效、系统污染、监测仪故障。排查流程:①校准监测仪;②测RO产水电导率
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