提升Low_K_晶圆划片良率与可靠性的组合划片工艺研究.docx

研究报告

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提升Low_K_晶圆划片良率与可靠性的组合划片工艺研究

一、研究背景与意义

1.Low_K_晶圆划片技术概述

Low_K_晶圆划片技术作为半导体制造工艺中的关键环节，其主要目的是将大块的Low_K_晶圆切割成所需的尺寸和形状的小晶圆片。Low_K_材料因其低介电常数和高击穿电场强度而受到广泛关注，尤其在5G、高性能计算和人工智能等领域的芯片制造中扮演着重要角色。这种材料的引入，可以显著降低芯片的功耗和提高其性能。在划片技术方面，由于Low_K_材料的特殊物理和化学性质，如高脆性、易碎性以及难以切割的特性，使得传统的划片工艺难以直接应用。因此，Low