增强型α-(AlxGa1-x)2O3Ga2O3 HEMT器件性能的研究.pdf

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摘要

随着超宽禁带半导体材料的发展,氧化镓(GaO)凭借超宽带隙(4.8-5.3

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eV)、高临界击穿电场和高巴利加优值(BFOM)等优势,成为目前重要的研究

方向。在半导体功率器件中,高电子迁移率晶体管(HEMTs)具有高电子迁移率、

高密度的二维电子气(2DEG)和高击穿电压等特点,在功率开关器件研究中占

据重要地位。但目前GaO材料还

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