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- 2026-02-05 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN114228335A
(43)申请公布日2022.03.25
(21)申请号202111670955.4
(22)申请日2021.12.31
(71)申请人北京中钞钞券设计制版有限公司地址100070北京市丰台区中核路5号
(72)发明人杨威韩树刚倪新雷孙家佳王雪杨泽生赵劲松刘雪敬
(74)专利代理机构北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250
代理人向森
(51)Int.CI.
B41F23/08(2006.01)
GO3F7/20(2006.01)
GO3F7/42(2006.01)
权利要求书2页说明书6页附图2页
(54)发明名称
一种上光涂布版、制作方法及在钞券印刷中的应用
(57)摘要
CN114228335A本发明涉及印刷技术领域,具体为一种上光涂布版、制作方法及在钞券印刷中的应用,基材包括基底层、粘结层、感光层和隔离层,且基材包括图文和非图文区域;制作方法包括:按照图文区域的边界对基材进行机械切割处理,剥离非图文区域的感光层和隔离层,使得非图文区域的基底层或粘结层裸露;对剥离后的基材进行第一次曝光处理;去除图文区域内的隔离层得到用于直接印刷的上光涂布版。本发明解决现有技术因采用溶剂溶解法制作涂布版,产生废气废液,污染环境,对操作人员健康造成损害,以及曝光固化
CN114228335A
CN114228335A权利要求书1/2页
2
1.一种上光涂布版的制作方法,用于制作上光涂布版的基材包括依次层叠设置的基底层(1)、粘结层(2)、感光层(3)和隔离层(4),且基材包括图文区域和非图文区域,其特征在于,包括以下步骤:
按照图文区域的边界对基材进行机械切割处理,剥离非图文区域的感光层(3)和隔离层(4),使得所述非图文区域的基底层(1)或粘结层(2)裸露;
对上述剥离后的基材进行第一次曝光处理;
去除所述图文区域内的隔离层(4)得到上光涂布版。
2.根据权利要求1所述的上光涂布版的制作方法,其特征在于:还包括在去除所述图文区域内的隔离层(4)后,对所述基材进行第二次曝光处理的步骤。
3.根据权利要求2所述的上光涂布版的制作方法,其特征在于:在对所述基材进行机械切割处理之前,还对所述基材进行预曝光处理。
4.根据权利要求3所述的上光涂布版的制作方法,其特征在于:所述预曝光处理、所述第一次曝光处理和所述第二次曝光处理所采用的曝光光源波长相同。
5.根据权利要求4所述的上光涂布版的制作方法,其特征在于:所述预曝光处理、所述第一次曝光处理和所述第二次曝光处理所采用的曝光光源均为紫外光。
6.根据权利要求1-5任一项所述的上光涂布版的制作方法,其特征在于:采用溶剂擦拭的方式去除所述基材的图文区域内的隔离层(4)。
7.根据权利要求1-6任一项所述的上光涂布版的制作方法,其特征在于:所述机械切割处理的深度大于或等于所述隔离层(4)的厚度与所述感光层(3)的厚度之和。
8.一种上光涂布版,其特征在于,采用权利要求1-7任一项所述的上光涂布版的制作方法制得。
9.一种上光涂布版在钞券涂布印刷中的应用,其特征在于:采用如权利要求8所述的上光涂布版印刷钞券。
10.根据权利要求9所述的上光涂布版在钞券涂布印刷中的应用,其特征在于:包括以
下步骤:
将所述上光涂布版固定在印版辊筒(7)表面,所述上光涂布版的基底层(1)靠近所述印版辊筒(7)表面,向所述上光涂布版背离所述印版辊筒(7)的一侧表面涂覆光油,向压印辊筒(8)上输送待印刷钞券(11);
将所述印版辊筒(7)和设置的压印辊筒(8)沿相反方向转动,且二者在转动过程中保持接触;
待所述上光涂布版表面涂覆的光油转移至所述待印刷钞券(11)表面后,将具有所述光油的所述待印刷钞券(11)从所述压印辊筒(8)剥离。
11.根据权利要求10所述的上光涂布版在钞券涂布印刷中的应用,其特征在于:还包括:
将光油转移至所述待印刷钞券(11)表面之后,对该表面进行紫外光曝光处理。
12.根据权利要求11所述的上光涂布版在钞券涂布印刷中的应用,其特征在于:采用网格辊筒(10)向上光涂布版表面涂覆光油。
13.根据权利要求12所述的上光涂布版在钞券涂布印刷中的应用,其特征在于:还包括:
3
CN114228335A
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