掩模传输系统中运动控制与预对准方法的深度解析与优化策略.docx

掩模传输系统中运动控制与预对准方法的深度解析与优化策略

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今数字化时代，半导体作为现代信息技术的基石，其发展水平直接关系到国家的科技实力和国际竞争力。半导体制造过程中，光刻技术扮演着至关重要的角色，被誉为半导体制造的“心脏”，它决定了芯片上电路图案的精度和复杂度，是实现芯片微型化、高性能化的关键技术。光刻技术的进步使得芯片的特征尺寸不断缩小，从早期的微米级别到如今的纳米级别，极大地提高了芯片的性能和功能，推动了整个半导体行业的飞速发展。

掩模传输系统作为光刻设备的关键组成部分，对芯片制造质量和效率有着深远影响。掩模传输系统负责将掩模上的电路图案精确地传输到