自对准多重图案成形技术赋能亚15纳米集成电路版图分解与合成的深度探究.docxVIP

自对准多重图案成形技术赋能亚15纳米集成电路版图分解与合成的深度探究

一、引言

1.1研究背景与意义

随着信息技术的飞速发展，集成电路作为现代电子系统的核心，其性能和集成度不断提升，对推动整个电子产业的进步起到了至关重要的作用。自1958年世界上第一块集成电路诞生以来，集成电路技术经历了飞速的发展，特征尺寸不断缩小，集成度持续提高。从早期的微米级工艺到如今的纳米级工艺，集成电路的性能得到了极大的提升，广泛应用于计算机、通信、消费电子、汽车电子等各个领域，成为现代社会不可或缺的关键技术。

在集成电路技术的发展历程中，光刻技术一直是制约其进一步发展的关键因素之一。光刻技术的原理是通过光线将掩