CN1573538A 具有双嵌附层的减光型相移光罩及其制作方法 （台湾积体电路制造股份有限公司）.docxVIP

[19]中华人民共和国国家知识产权局

[12]发明专利申请公开说明书

[21]申请号200410048106.5

[51]Int.Cl?

G03F1/00

G03F7/20H01L21/00

[43]公开日2005年2月2日[11]公开号CN1573538A

[22]申请日2004.6.11

[21]申请号200410048106.5

[30]优先权

[32]2003.6.16[33]US[31]10/462,359

[71]申请人台湾积体电路制造股份有限公司地址台湾省新竹科学工业园区

[72]发明人林政旻

[74]专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司

代理人黄健

权利要求书3页说明书7页附图4页

[54]发明名称具有双嵌附层的减光型相移光罩及其制作方法

[57]摘要

本发明涉及一种具有双嵌附层的减光型相移光罩及其制作方法。该光罩包括：一透明基底；一透光性嵌附层覆盖于透明基底上；以及一稳定性嵌附层覆盖于透光性嵌附层上，透光性嵌附层与稳定性嵌附层构成一双嵌附层，其中稳定性嵌附层的化学稳定性比透光性嵌附层佳，双嵌附层的整体透射率(transmittance;T%)大体为8-15%。透光嵌附层与稳定性嵌附层可由铝硅氮化合物所构成，其化学通式分别为AlSi?N,1与AlSiNy?。本发明还涉及该光罩的制作方法。

知识产权出版社出版

200410048106.5权利要求书第1/3页

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1.一种具有双嵌附层的减光型相移光罩，其结构包括：

一透明基底；

一透光性嵌附层，覆盖于该透明基底上；以及

5一稳定性嵌附层，覆盖于该透光性嵌附层上，该透光性嵌附层与该稳定性嵌附层构成一双嵌附层，其中所述稳定性嵌附层的化学稳定性比透光性嵌附层佳。

2.如权利要求1所述的具有双嵌附层的减光型相移光罩，其中所述双嵌附层的整体透射率为8-15%。

103.如权利要求1所述的具有双嵌附层的减光型相移光罩，其中于所述透明基底上更包含至少一透光区，并露出该透光区内的透明基底部分。

4.如权利要求1所述的具有双嵌附层的减光型相移光罩，其中所述透光性嵌附层包括A1Six?Ny?,其中x1为0.28-0.45,而y1为0.48-0.66;所述稳定性嵌附层包括A1Si?Ny?,其中x2为0.18-0.29,而y2为1.02-

151.45。

5.如权利要求1所述的具有双嵌附层的减光型相移光罩，其中所述透明基底材质为石英玻璃。

6.如权利要求1所述的具有双嵌附层的减光型相移光罩，其中所述双嵌附层与透明基底具有180°的相位差。

207.如权利要求1所述的具有双嵌附层的减光型相移光罩，其中所述透光性嵌附层的透射率为5-45%、折射率为1.8-2.35、而消光系数则为

0.25-0.42。

8.如权利要求1所述的具有双嵌附层的减光型相移光罩，其中所述稳定性嵌附层的透射率为20-90%、折射率为2.03-2.46、而消光系数则为

250.12-0.29。

200410048106.5权利要求书第2/3页

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9.一种具有双嵌附层的减光型相移光罩的制作方法，包括下列步骤：

提供一透明基底；

形成一透光性嵌附层覆盖于该透明基底上；以及

形成一稳定性嵌附层覆盖于该透光性嵌附层上，该透光性嵌附层与稳

5定性嵌附层构成一双嵌附层，其中所述稳定性嵌附层的化学稳定性比透光性嵌附层佳。

10.如权利要求9所述的具有双嵌附层的减光型相移光罩的制作方法，其中所述双嵌附层的整体透射率为8-15%。

11.如权利要求9所述的具有双嵌附层的减光型相移光罩的制作方法，10更包括下列步骤：

定义所述透光性嵌附层及稳定性嵌附层直到露出其下的透明基底，以形成至少一透光区。

12.如权利要求9所述的具有双嵌附层的减光型相移光罩的制作方法，其中所述透明基底材质为石英玻璃。

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