CN101330061B 像素结构的制作方法 （友达光电股份有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN101330061B

(45)授权公告日2010.12.08

(21)申请号200810134306.0

(22)申请日2008.07.22

(73)专利权人友达光电股份有限公司地址中国台湾新竹市

(72)发明人廖达文童振邦张家铭张宗隆赖哲永江俊毅余宙桓萧祥志周汉唐张峻恺

(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司11127

代理人任默闻

(51)Int.CI.

HO1L21/84(2006.01)

HO1L27/12(2006.01)

GO2F1/1362(2006.01)

(56)对比文件

CN1716062A,2006.01.04,

CN101197332A,2008.06.11,说明书第2页第5段至第7页第4段、图2-5.

审查员施曙东

权利要求书2页说明书7页附图21页

(54)发明名称

像素结构的制作方法

(57)摘要

CN101330061B本发明提供一种像素结构的制作方法，该方法包括下列步骤。首先，于基板上形成栅极。接着，于基板上形成栅绝缘层以覆盖