CN101146874A 多孔质膜的前体组合物及其制备方法、多孔质膜及其制作方法以及半导体装置 （株式会社爱发科）.docxVIP

[19]中华人民共和国国家知识产权局

[12]发明专利申请公布说明书

[21]申请号200680009348.0

[51]Int.Cl.

C09D7/12(2006.01)C09D183/002006.01)HO1L21/316(2006.01)

[43]公开日2008年3月19日[11]公开号CN101146874A

[22]申请日2006.3.17

[21]申请号200680009348.0

[30]优先权

[32]2005.3.23[33]JP[31]084206/2005

[86]国际申请PCT/JP2006/3053502006.3.17

[87]国际公布WO2006/101027日2006.9.28

[85]进入国家阶段日期2007.9.21

[71]申请人株式会社爱发科地址日本神奈川

共同申请人独立行政法人产业技术综合研究所三井化学株式会社

[72]发明人藤井宣年中山高博金山敏彦高村一夫田中博文

[74]专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人陈昕

权利要求书4页说明书23页

[54]发明名称

多孔质膜的前体组合物及其制备方法、多孔质膜及其制作方法以及半导体装置

[57]摘要

本发明提供一种多孔质膜的前体组