CN101344726A 制作周期性图案的步进排列式干涉微影方法及其装置 （财团法人工业技术研究院）.docxVIP

[19]中华人民共和国国家知识产权局[51]Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

[12]发明专利申请公布说明书

[21]申请号200710122780.7

[43]公开日2009年1月14日[11]公开号CN101344726A

[22]申请日2007.7.9

[21]申请号200710122780.7

[71]申请人财团法人工业技术研究院地址台湾省新竹县

[72]发明人王伦陈永彬饶智升张所鉱张哲豪

[74]专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司

代理人周国城

权利要求书3页说明书12页附图13页

[54]发明名称

制作周期性图案的步进排列式干涉微影方法及其装置

[57]摘要

本发明提供一种制作周期性图案的步进排列式干涉微影方法及其装置，其是通过控制至少两道特定形状的同调光束，使其投射至一待曝光基材上以形成特定区域大小的干涉条纹。然后，再通过由多数次步进移动的方式控制待曝光基材或者是该两道特定形状的同调光束的位置，以于该待曝光基材上形成具有大面积的预定图案。通过本发明的方式可以缩短光学传播路径与曝光时间，进而减少微影制程缺陷的产生以及增加