CN111542784B 具有倾斜周期性结构的计量目标及方法 （科磊股份有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN111542784B

(45)授权公告日2025.05.06

(21)申请号201880085027.1(73)专利权人科磊股份有限公司

地址美国加利福尼亚州

(22)申请日2018.11.29

(72)发明人F·约埃尔M·吉诺乌克

(65)同一申请的已公布的文献号

A·斯维泽尔V·莱温斯基

申请公布号CN111542784A

I·塔尔西斯-沙皮尔

(43)申请公布日2020.08.14

(74)专利代理机构北京律盟知识产权代理有限

(30)优先权数据

责任公司11287

62/617,0862018.01.12US专利代理师刘丽楠

(85)PCT国际申请进入国家阶段日

(51)Int.Cl.

2020.07.01

G03F7/20(2006.01)

(86)PCT国际申请的申请数据

(56)对比文件

PCT/US2018/0629312018.11.29

JP特开2015-95631A,2015.05.18

(87)PCT国际申请的公布数据JP特表2015-532733A,2015.11.12

WO2019/139685EN2019.07.18

审查员邵文莉

权利要求书2页说明书8页附图10页

(54)发明名称

具有倾斜周期性结构的计量目标及方法

(57)摘要

本发明揭示计量目标、其设计方法及测量方

法，所述目标具备相对于光刻工具的正交产生轴

X及Y倾斜的周期性结构，从而实现具有对角线

(倾斜(oblique/tilted))元件的装置(例如DRAM

装置)的更准确叠加测量。一或多个倾斜周期性

结构可用于提供关于一或多个层的一维或二维

信号，从而可能提供针对应用到一个层的多个步

骤的叠加测量。所述倾斜周期性结构可用于修改

当前计量目标设计(例如，成像目标及/或散射测

量目标)或设计新的目标，且可分别调整测量算

法以从所述倾斜周期性结构导出信号及/或提供

其预处理图像。所揭示的目标是过程兼容的且更

B准确地反映关于各种过程步骤的装置叠加。

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CN111542784B权利要求书1/2页

1.一种计量目