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集成电路制造工艺波动与对准套刻技术(特邀).pdfVIP

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  • 2026-03-02 发布于福建
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集成电路制造工艺波动与对准套刻技术(特邀).pdf

    第2卷第13期/2025年7月/光学学报(网络版)封面文章·特邀综述

    集成电路制造工艺波动与对准套刻技术（特邀）

    1，2，31，2，3*

    张利斌，韦亚一

    1中国科学院微电子研究所EDA中心，北京100029；

    2中国科学院大学集成电路学院，北京100049；

    3中国科学院微电子研究所集成电路制造技术全国重点实验室，北京100029

    摘要集成电路芯片制造技术是现代社会的核心和基础，对芯片设计图形的准确制造需要克服图形分辨率、图层间对准

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