CN107024730B 一种采用liftoff原理制作方形光栅的方法 (福建中科晶创光电科技有限公司).docxVIP

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  • 2026-03-05 发布于重庆
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CN107024730B 一种采用liftoff原理制作方形光栅的方法 (福建中科晶创光电科技有限公司).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN107024730B

(45)授权公告日2019.03.12

(21)申请号201710472796.4

(22)申请日2017.06.21

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN107024730A

(43)申请公布日2017.08.08

(73)专利权人福建中科晶创光电科技有限公司地址350100福建省福州市闽侯县上街镇

科技东路中科院海西研究院(中国科学院福建物质结构研究所)3号楼726室

(72)发明人梁万国李广伟张新汉陈怀熹缪龙冯新凯邹小林

(74)专利代理机构福州科扬专利事务所35001代理人罗立君

(51)Int.CI.

GO2B5/18(2006.01)

审查员叶凤娟

权利要求书3页说明书6页附图9页

(54)发明名称

一种采用lift-off原理制作方形光栅的方法

(57)摘要

CN107024730B本发明涉及一种采用lift-off原理制作方形光栅的方法,包括以下依序进行的步骤:①对方形基片进行清洁;②真空旋转涂胶,使用真空涂胶机对方形基片进行涂胶,胶液通过旋转离心力均匀分散涂抹在方形基片表面;③热板平移烘干,在真空环境下采用平行基片的热板对完成步骤②的方形基片的胶液进行烘干;④对完成步骤③的基片进行全息曝光和显影;⑤ICP刻蚀,对完成步骤④的基片进行刻蚀;⑥镀膜,使用镀膜夹具夹住方形基片,在镀膜机中对完成步骤⑤的基片进行镀膜;⑦胶合,对完成步骤⑥后的基片进

CN107024730B

离。

基片清洁真空旋转涂胶

分离

热板平移烘干

胶合

曝光、显影

IPC刻蚀

镀膜

CN107024730B权利要求书1/3页

2

1.一种采用lift-off原理制作方形光栅的方法,其特征在于:包括以下依序进行的步骤:

①对方形母版基片进行清洁;

②真空旋转涂胶,使用真空涂胶机对方形母版基片进行涂胶,胶液通过旋转离心力均匀分散涂抹在方形母版基片表面;

③热板平移烘干,在真空环境下采用平行母版基片的热板对完成步骤②的方形母版基片的胶液进行烘干;

④对完成步骤③的方形母版基片进行全息曝光和显影;

⑤ICP刻蚀,对完成步骤④的方形母版基片进行刻蚀形成母光栅(7);

⑥镀膜,使用镀膜夹具夹住母光栅(7),在镀膜机中对完成步骤⑤的母光栅(7)进行镀膜;

⑦胶合,在完成步骤⑥后的方形母版基片上涂覆紫外固化胶,然后在紫外固化胶上贴子光栅(9)基片进行紫外胶胶合;

⑧分离,紫外固化结束后,采用子母光栅分离装置(3)将母光栅(7)和子光栅基片(9)进行分离;

所述子母光栅分离装置(3)包括冷冻室(31)以及设置于冷冻室(31)内的分离钳(32),所述分离钳(32)包括主升降平台(320)以及安装在主升降平台(320)上的子光栅载物台和母光栅载物台,所述子光栅载物台包括子光栅二维位移台(321)、与子光栅二维位移台(321)连接的子光栅升降台(322)、一子光栅基片夹持器(323)设置于子光栅载物台上,所述母光栅载物台包括六自由度PI并联微动平台(324)和与六自由度PI并联微动平台(324)连接的母光栅二维位移台(325),一母光栅夹持器(326)设置于母光栅载物台上,六自由度PI并联微动平台(324)可实现对母光栅(7)的六个方向的精确微调。

2.如权利要求1所述的采用lift-off原理制作方形光栅的方法,其特征在于:所述紫外胶胶合的方法为:

在母光栅(7)上沉积金属膜层(8),调整镀膜速率为15nm/min,镀膜时间为6min,镀膜结束后,然后将0.5ml紫外固化胶均匀涂布在镀膜后的母光栅(7)上形成紫外固化胶层(107),取一片清洁干净的6mm的子光栅基片(9),盖在紫外固化胶层(107)上,并轻轻按压,将多余的紫外固化胶排出,待紫外胶不再排出时,进行紫外固化,调整紫外线光源(101)的功率为1mW,控制固化时间为2小时。

3.如权利要求2所述的采用lift-off原理制作方形光栅的方法,其特征在于:采用紫外胶固化装置在母光栅(7)上镀膜沉积金属膜层(8),所述紫外胶固化装置包括紫外线光源(101)以及位于紫外线光源(101)下方的固化机构(102);所述固化机构(102)包括固设在传输带(

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