CN107473177A 一种3d立体微纳结构的制作方法 (华中科技大学).docxVIP

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  • 2026-03-09 发布于重庆
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CN107473177A 一种3d立体微纳结构的制作方法 (华中科技大学).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN107473177A

(43)申请公布日2017.12.15

(21)申请号201710574943.9

(22)申请日2017.07.14

(71)申请人华中科技大学

地址430074湖北省武汉市洪山区珞喻路

1037号

(72)发明人吴丰顺周政莫丽萍祝温泊章安娜

(74)专利代理机构华中科技大学专利中心

42201

代理人梁鹏曹葆青

(51)Int.CI.

B81C1/00(2006.01)

权利要求书1页说明书5页附图2页

(54)发明名称

一种3D立体微纳结构的制作方法

(57)摘要

CN107473177A本发明属于微纳制造工艺相关领域,并提供了一种3D微纳结构的制作方法,该方法包括:将被加工材料薄膜放置在模具上,模具根据根据材料的脱模性能决定是否涂覆脱模剂,在被加工材料薄膜上方放置用于发生自蔓延反应的自蔓延多层膜,向自蔓延多层膜自上至下的结构施加0.1MPa~20MPa的压力,点燃自蔓延多层膜,由此方式以点燃后的自蔓延多层膜作为热量与冲击力的来源,将所述模具上的图形转移到所述被加工材料薄膜上。按照本方法,不仅可有效避免微纳制造复杂的加工工序,具有方法灵活、成本低

CN107473177A

S1,

S1,根据所设计图案制备模具:

S2,在所述模具表面可选择地涂覆一层脱模剂,然后依次放置被加工材料薄膜、缓神层、自蔓延多层膜、隔热材料膜和压板;

S3,向所述压板均匀施加一压力并引燃所述自蔓延多层膜,反应完成后脱模。

CN107473177A权利要求书1/1页

2

1.一种3D立体微纳结构的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括如下步骤:

S1,根据所设计图案制备模具;

S2,在所述模具表面可选择地涂覆一层脱模剂,然后依次设置被加工材料薄膜、缓冲层、自蔓延多层膜、隔热材料膜和压板;

S3,向所述压板均匀施加0.1MPa~20MPa的压力并引燃所述自蔓延多层膜,反应完成后执行脱膜,由此获得所需的3D立体微纳结构。

2.一种3D立体微纳结构的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括将被加工材料薄膜放置在可选择性涂覆有脱模剂的模具上,在其上方放置用于发生自蔓延反应的自蔓延多层膜,向所述自蔓延多层膜自上至下施加0.1MPa~20MPa的压力,点燃所述自蔓延多层膜,由此方式以点燃后的所述自蔓延多层膜作为热量与冲击力的来源,将所述模具上的图形转移到所述被加工材料薄膜上。

3.如权利要求1或2所述的一种3D微纳结构的制作方法,其特征在于,所述自蔓延多层膜作为热量和冲击力的来源,并且该自蔓延多层膜优选为Al-Ni膜、Ti-A1膜和Ti-Si膜等一种或者多种的组合。

4.如权利要求3所述的一种3D微纳结构的制作方法,其特征在于,所述自蔓延多层膜的厚度优选为40μm~80μm。

5.如权利要求2或3所述的一种3D微纳结构的制作方法,其特征在于,所述S3步骤中施压时间优选为1s~20s。

6.如权利要求3-5任意一项所述的一种3D微纳结构的制作方法,其特征在于,所述隔热材料膜材料为绝热材料且耐800℃以上温度。

CN107473177A说明书1/5页

3

一种3D立体微纳结构的制作方法

技术领域

[0001]本发明属于微电子制造工艺相关领域,更具体地,涉及一种3D立体微纳结构的制作方法。

背景技术

[0002]微机电系统(MEMS)也叫做微电子机械系统、微系统、微机械等,是在微电子技术(半导体制造技术)基础上发展起来的,融合了光刻、腐蚀、薄膜、LIGA、硅微加工、非硅微加工和精密机械加工等技术制作的高科技电子机械器件。MEMS侧重于超精密机械加工,为智能系统、消费电子、可穿戴设备、智能家居、系统生物技术的合成生物学与微流控技术等领域开拓了广阔的用途。

[0003]现有技术中依靠模具工艺形成适用于MEMS的3D微纳结构的主要工艺技术有两种:LIGA(光刻、电铸和注塑)工艺和纳米压印工艺,并获得了广泛应用。对于前者而言,它是一种基于X射线光刻技术的MEMS加工技术,主要包括X光深度同步辐射光刻

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