CN112447502B 基片处理装置、基片处理方法和存储介质 (东京毅力科创株式会社).docxVIP

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  • 2026-03-09 发布于山西
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CN112447502B 基片处理装置、基片处理方法和存储介质 (东京毅力科创株式会社).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN112447502B

(45)授权公告日2025.05.20

(21)申请号202010878313.2

(22)申请日2020.08.27

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN112447502A

(43)申请公布日2021.03.05

(30)优先权数据

2019-1602742019.09.03JP

(73)专利权人东京毅力科创株式会社地址日本东京都

(72)发明人田中启一

(74)专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司11322

专利代理师龙淳刘芃茜

(51)Int.

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