CN105842228A 基于表面等离激元效应的纳米环形腔sers基底及其制作方法 (南京信息工程大学).docxVIP

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  • 2026-03-09 发布于重庆
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CN105842228A 基于表面等离激元效应的纳米环形腔sers基底及其制作方法 (南京信息工程大学).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN105842228A

(43)申请公布日2016.08.10

(21)申请号201610328132.6

(22)申请日2016.05.17

(71)申请人南京信息工程大学

地址210019江苏省南京市建邺区奥体大

街69号

(72)发明人倪海彬常建华王婷婷刘清倦倪波葛益娴

(74)专利代理机构南京纵横知识产权代理有限公司32224

代理人董建林

(51)Int.CI.

GO1N21/65(2006.01)

B82Y40/00(2011.01)

权利要求书1页说明书5页附图2页

(54)发明名称

基于表面等离激元效应的纳米环形腔SERS基底及其制作方法

(57)摘要

CN105842228A6A本发明公开了一种基于表面等离激元效应的纳米环形腔SERS基底,包括基片,基片上设置有纳米级单层PS微球阵列,PS微球阵列中填充有SiO?或者TiO?前驱物溶液形成的凝胶层,凝胶层的厚度小于微球直径,PS微球顶部与凝胶层之间设有纳米级环形凹腔,在基片的表层还覆有金属层,覆有金属层的环形凹腔形成金属环形腔阵列。将待检测样品填充在环形凹腔内,

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