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- 2026-03-11 发布于北京
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(21)申请号201620015694.0
(22)申请日2016.01.05
(73)专利权人清科机电科技地址300350市津南区海河科技园区聚兴
道9号,8号楼
专利权人
(72)发明人新春
(74)专利机构清亦华(普通合伙)11201
人
(51)Int.61.
B24B37/04(2012.01)
B24B49/12(2006.01)
H01L21/304(2006.01)
权利要求书1页说明书3页附图3页
(54)实用新型名称
抛光盘组件以及具有其的抛光机
(57)
本实用新型公开了抛光盘组件以及具有其的抛光机,抛光盘组件包括:抛光盘,所述抛光
盘上设置有贯穿所述抛光盘厚度的通孔;光学膜厚检测装置,所述通孔为所述光学膜厚检
测装置的光学通道。通过在抛光盘上设置通孔,可以便于光学膜厚检测装置检测晶圆的膜
厚值,从而可以使得晶圆的膜厚值符合要求,进而至少一定程度上可以提高晶圆的成品率。
另外,设置有通孔的抛光盘结构简单且易于加工。
1.一种抛光机的抛光盘组件,其特征在于,包括:抛光盘,所述抛光盘上设置有贯穿
所述抛光盘厚度的通孔;
光学膜厚检测装置,所述通孔为所述光学膜厚检测装置的光学通道。
2.根据权利要求1所述的抛光机的抛光盘组件,其特征在于,所述通孔包括:第一
子通孔和第二子通孔,所述第一子通孔设置在所述第二子通孔的上方且与所述第二
子通孔相连,所述光学膜厚检测装置适于放置在所述第二子通孔内。
3.根据权利要求2所述的抛光机的抛光盘组件,其特征在于,所述第一子通孔的横
截面面积小于所述第二子通孔的横截面面积。
4.根据权利要求2所述的抛光机的抛光盘组件,其特征在于,所述第一子通孔为圆
形、矩形或椭圆形。
2.一种抛光机,其特征在于,包括根据权利要求1-4中任一项所述的抛光机的抛光盘
组件。
抛光盘组件以及具有其的抛光机
技术领域
[0001]本实用新型涉及抛光机技术领域,尤其涉及一种抛光盘组件以及具有该抛光盘组件
的抛光机。
背景技术
[0002]随着制造的发展,器件密度越来越大,布线层数越来越多。当层数越来越多,
保证晶圆表面的平整度也越发重要,化学机械抛光解决了这个问题。与此同时,需要精确
的知道在抛光过程中去除了多少或者多少厚度的材料,避免过抛或者欠抛。
实用新型内容
[0003]本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本实用
新型提出一种抛光机的抛光盘组件,该抛光盘组件可以便于光学膜厚检测装置检测晶圆的
膜厚值。
[0004]本实用新型进一步地提出了一种抛光机。
[0005]根据本实用新型的抛光机的抛光盘组件,包括:抛光盘,所述抛光盘上设置有贯穿
所述抛光盘厚度的通孔;光学膜厚检测装置,所述通孔为所述光学膜厚检测装置的光学通
道。
[0006]根据本实用新型的抛光机的抛光盘组件,通过在抛光盘上设置通孔,可以便于光学
膜厚检测装置检测晶圆的膜厚值,从而可以使得晶圆的膜厚值符合要求,进而至少一定程
度上可以提高晶圆的成品率。另外,设置有通孔的抛光盘结构简单且易于加工。
[0007]另外,根据本实用新型的抛光机的抛光盘组件还可以具有以下区别技术特征:
[0008]在本实用新型的一些示例中,所述通孔包括:第一子通孔和第二子通孔,所述第一
子通孔设置在所述第二子通孔的上方且与所述第二子通孔相连,所述光学膜厚检测装置适
于放置在所述第二子通孔内。
[0009]在本实用新型的一些示例中,所述第一子通孔的横截面面积小于所述第二子通孔的
横截面面积。
[0010]在本实用新型的一些示例中,所述第一子通孔为圆形、矩形或椭圆形。
[0011]根据本实用新型的抛光机,包括上述的抛光盘组件。由于上述抛光盘组件中的抛光
盘上设置
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