CN102126699A 一种利用原子束和纳米孔进行微小尺寸图形制作的方法 （清华大学）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN102126699A

(43)申请公布日2011.07.20

(21)申请号201110031770.9

(22)申请日2011.01.28

(71)申请人清华大学

地址100084北京市海淀区100084信箱82

分箱清华大学专利办公室

(72)发明人刘泽文司卫华尹明

(74)专利代理机构西安智大知识产权代理事务所61215

代理人贾玉健

(51)Int.CI.

B81C1/00(2006.01)

权利要求书1页说明书3页附图1页

(54)发明名称

一种利用原子束和纳米孔进行微小尺寸图形制作的方法

(57)摘要

CN102126699A一种利用原子束和纳米孔进行微小尺寸图形制作的方法，包括以下步骤：一、用微细加工技术，采用干法刻蚀和湿法刻蚀相结合的方法，制作出阵列纳米孔结构，形成阵列纳米孔掩模；二、以原子为工作粒子进行原子刻蚀或者原子沉积加工；三、根据对准结构和对准图形进行对准，利用衬底或者掩模的移动完成纳米结构的制作；本发明是在纳米尺度内实现原子的结构化和图形化的一种新型纳米制作方法，为原子束的表面控制和其他纳米加工技术提供了技术支持，起到了推动作

CN102126699