CN104659082A 垂直结构AlGaNGaN HEMT器件及其制作方法 (苏州能屋电子科技有限公司).docxVIP

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  • 2026-03-19 发布于重庆
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CN104659082A 垂直结构AlGaNGaN HEMT器件及其制作方法 (苏州能屋电子科技有限公司).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN104659082A

(43)申请公布日2015.05.27

(21)申请号201510109496.0

(22)申请日2015.03.12

(71)申请人苏州能屋电子科技有限公司

地址215000江苏省苏州市工业园区星湖街

218号生物纳米园A4楼110B室

(72)发明人孙世闯张宝顺范亚明付凯蔡勇于国浩张志利宋亮

(74)专利代理机构南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32256

代理人王锋

(51)Int.CI.

HO1LHO1L

HO1L

29/36(2006.01)29/778(2006.01)21/335(2006.01)

权利要求书1页说明书6页附图2页

(54)发明名称

垂直结构AlGaN/GaNHEMT器件及其制作方法

(57)摘要

CN104659082A本发明公开了一种垂直结构AlGaN/GaNHEMT器件,包括衬底、以及依次形成于所述衬底上的n+GaN层、高阻GaN层、本征GaN层和AlGaN层,与所述n+GaN层形成欧姆接触的漏电极、与所述AlGaN层形成欧姆接触的源电极,以及栅

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