探索PDSOI器件抗辐照加固电路的单粒子翻转模型:理论、实践与前沿洞察.docxVIP

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  • 2026-03-20 发布于上海
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探索PDSOI器件抗辐照加固电路的单粒子翻转模型:理论、实践与前沿洞察.docx

探索PDSOI器件抗辐照加固电路的单粒子翻转模型:理论、实践与前沿洞察

一、引言

1.1研究背景

随着科技的飞速发展,电子器件在各类复杂环境中的应用愈发广泛,尤其是在航空航天、核能等领域,这些环境中存在着大量的高能粒子辐射,对电子器件的性能和可靠性构成了严峻挑战。在众多抗辐照器件中,部分耗尽绝缘体上硅(PDSOI,PartiallyDepletedSiliconOnInsulator)器件凭借其独特的结构和优异的电学性能,逐渐成为研究的热点和关键技术之一。PDSOI器件采用了在硅衬底上生长一层二氧化硅埋层,再在埋层上生长硅薄膜的结构,这种结构实现了器件与衬底的完全介质隔离,使其具备了诸多优点,如低功耗、高速率、高集成度以及良好的抗闩锁能力等。在航空航天领域,卫星、飞船等飞行器需要在充满高能宇宙射线和太阳粒子辐射的太空环境中长时间稳定工作,PDSOI器件的这些优势使其成为航空航天电子系统中不可或缺的组成部分。以卫星的星载计算机为例,其核心处理器和存储器大量采用PDSOI器件,以确保在复杂辐射环境下数据处理和存储的准确性与可靠性。

然而,PDSOI器件在辐照环境下仍面临着单粒子翻转(SingleEventUpset,SEU)的问题。单粒子翻转是指当单个高能带电粒子(如质子、重离子等)入射到PDSOI器件中时,在其敏感区域产生电子-空穴对,这些电荷在器件

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