MOPA结构准分子激光器双腔同步放电：原理、挑战与优化策略.docxVIP

MOPA结构准分子激光器双腔同步放电：原理、挑战与优化策略

一、引言

1.1研究背景与意义

随着科技的飞速发展，半导体集成电路的集成度不断提高，对光刻技术的要求也日益严苛。在半导体集成电路光刻领域，振荡-放大（MOPA）结构的准分子激光器凭借其独特的优势占据了主导地位。准分子激光器以其高脉冲能量、短波长以及良好的光束质量，能够满足高精度光刻的需求，使得电路特性能够降至极小尺寸，远远低于衍射极限，例如193nm的准分子激光已助力电路特性降至10nm。

在MOPA结构的准分子激光器中，双腔同步放电是确保激光器正常工作以及获得高质量激光输出的关键因素。一般而言，要求PA腔迟于MO腔约20-40ns放电，并且两腔放电时序相对抖动需要严格控制在±5ns内。这是因为准分子激光器的放电时间极短，通常为20ns-50ns，同时激活介质的上能级寿命也在10ns量级左右，粒子数反转仅能在放电期间实现。在双腔结构中，只有当第一个激光器（MO腔）产生的激光束到达第二个激光器（PA腔）时，PA腔处于粒子数反转状态，才能有效地对种子光进行能量放大。若双腔不能同步放电，将会导致激光输出不稳定、能量波动大以及光束质量下降等问题，进而严重影响光刻的精度和质量，使得在半导体集成电路制造过程中，无法精确地将电路图案转移到晶圆上，降低产品的良品率和性能。

1.2国