探秘掺杂BiFeO₃薄膜：制备工艺与性能调控的深度剖析.docx

探秘掺杂BiFeO?薄膜：制备工艺与性能调控的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

多铁材料，作为一类同时展现出铁电性、铁磁性以及铁弹性等多种铁性的特殊材料，因其独特的磁电耦合效应，在信息存储、传感器、自旋电子学等众多前沿领域展现出了巨大的应用潜力。在多铁材料的研究范畴中，BiFeO?薄膜凭借其在室温下稳定存在的铁电性与反铁磁性，成为了备受瞩目的研究焦点。BiFeO?属于钙钛矿结构，具有较高的居里温度（T_c≈820℃）和尼尔温度（T_N≈370℃），从理论层面而言，其自发极化强度高达100μC/cm2，为实现高性能的多铁器件提供了可能。

然而，在实际应用中，BiFeO?薄膜却面临着