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《隧穿氧化层钝化接触（TOPCon）电池硼扩工艺优化》

一、概述

1.1报告背景与研究意义

随着光伏产业对高效率太阳能电池需求的持续增长，N型隧穿氧化层钝化接触（TOPCon）电池凭借其高转换效率、低衰减特性及与现有PERC产线兼容的优势，正逐渐成为下一代主流光伏技术路线。在TOPCon电池的制备过程中，硼扩工艺作为制备P型发射极的关键环节，直接决定了电池的光电转换效率与成本控制水平。然而，硼原子的固溶度低、扩散系数小以及硼硅玻璃（BSG）层的去除难度大，使得硼扩工艺面临表面浓度控制难、钝化效果不稳定等技术瓶颈。本研究旨在深入分析硼掺杂工艺对多晶硅层钝化效果的影响机制，探讨扩硼温度与时间对表面浓度分布的调控规律，并解析其在提升电池开路电压中的核心作用。通过优化硼扩工艺参数，解决现有技术中的钝化损耗问题，对于提升TOPCon电池的量产效率、降低度电成本具有重要的理论价值与实践意义。

1.2研究范围与方法

本报告的研究范围聚焦于TOPCon电池制造中的硼扩散工艺环节，涵盖扩散温度、时间、气体流量等关键工艺参数的优化及其对电池电性能的影响分析。研究内容涉及多晶硅钝化层的界面态密度控制、硼原子在硅基体中的浓度分布模型以及开路电压的提升机理。在研究方法上，本报告综合运用了文献计量分析法、专利技术情报分析以及实验数据对比验证。数据来源包括国内外权威光伏学术