2025年硅碳生产与加工手册
第1章硅碳生产全流程工艺控制
1.1原料预处理与硅源制备
硅源(如高纯度多晶硅粉或硅粉)的预处理是确保反应基础质量的关键,需首先检查原料颗粒的粒径分布,将粒径控制在50-80μm范围,过细颗粒易团聚导致硅源利用率下降,过粗颗粒则易造成熔池表面张力不均;②对原料进行严格的真空干燥处理,在-10℃至20℃的低温环境下使用真空干燥箱去除原料中的水分和有机溶剂,水分含量需严格控制在0.02%以下,否则在高温熔炼阶段会导致硅源水解硅烷气体,造成巨大的能耗浪费和环境污染;按照“先加熟料后加水”的原则进行混合,先将高岭土、石英砂等硅源熟料在100℃下
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