CN119452461A 优化光刻胶材料的沉积后烘烤状态的方法 (应用材料公司).docxVIP

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  • 2026-04-28 发布于山西
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CN119452461A 优化光刻胶材料的沉积后烘烤状态的方法 (应用材料公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119452461A

(43)申请公布日2025.02.14

(21)申请号202380052821.7

(22)申请日2023.06.09

(30)优先权数据

63/388,2052022.07.11US

18/204,8052023.06.01US

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.09

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/US2023/0249722023.06.09

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/015173EN2024.01.18

(71)申请人应

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