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石墨烯制备与应用技术手册

第1章石墨烯制备原理与工艺路线

1.1化学气相沉积法（CVD）技术机理与参数优化

1.1.1碳源分解与石墨烯层状结构的形成

在反应腔内，以石墨为碳源，通过高温（通常800-1200℃）和氢气氛围，使石墨晶格中的sp2键发生均裂和重组。的碳原子在金属催化剂（如钼、钨或镍）表面吸附，形成亚稳态的碳前驱体，随后通过热分解反应转化为石墨烯片层。

随着温度升高，碳原子逐渐从二维平面向三维堆叠过渡，最终形成具有特定晶格取向（如r-66°）的石墨烯薄膜。反应过程中，氢气作为还原剂，不断清除催化剂表面的碳沉积物，防止催化剂被碳化堵塞，同时抑制碳微粒的。