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精密抛光加工技师考试试卷及答案

一、填空题（共10题，每题1分）

1.精密抛光常用磨料按粒度分为粗、中、______磨料。

2.抛光液的作用是润滑、冷却和______。

3.电解抛光使用的电流类型为______直流电。

4.表面粗糙度参数Ra的单位是______。

5.化学抛光利用______对工件表面选择性溶解。

6.超精密抛光粗糙度可达______纳米以下。

7.聚氨酯抛光垫常用于______抛光。

8.抛光轨迹应避免______，防止局部过抛。

9.纳米抛光常用磨料含二氧化硅和______。

10.抛光压力过大易导致工件表面______。

二、单项选择题（共10题，每题2分）

1.适合陶瓷等硬脆材料的精密抛光方法是：

A.机械抛光B.CMPC.电解抛光D.超声抛光

2.电解抛光不具备的作用是：

A.提高亮度B.去毛刺C.降粗糙度D.强化硬度

3.金属化学抛光液通常呈：

A.酸性B.中性C.碱性D.任意

4.最细的磨料粒度是：

A.W1B.W5C.W10D.W20

5.避免抛光划痕的关键是：

A.增压B.磨料清洁C.减时D.低速

6.CMP的核心是：

A.纯化学溶解B.纯机械去除C.化学-机械协同D.超声辅助

7.抛光垫硬度与效率的关系：

A.硬度越高效率越高B.硬度越低效率越高C.无关D.取决于磨料

8.精密抛光粗糙度目标不超过：

A.Ra0.1μmB.Ra1μmC.Ra10