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高纯铟及铟靶材项目可行性研究报告

第一章项目总论

项目名称及建设性质

项目名称：高纯铟及铟靶材项目

项目建设性质：本项目属于新建高新技术产业项目，专注于高纯铟提纯及铟靶材研发、生产与销售，旨在填补区域内高端铟材料产业链空白，推动半导体及显示面板关键材料国产化进程。

项目占地及用地指标：项目规划总用地面积52000.68平方米（折合约78.00亩），其中建筑物基底占地面积37440.49平方米；规划总建筑面积61209.82平方米，包含生产车间、研发中心、仓储设施、办公及生活服务用房等；绿化面积3380.03平方米，场区停车场及道路硬化占地面积10850.16平方米；土地综合利用面积5