碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)试验方法 第3部分:动态栅偏.pdfVIP

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  • 2026-05-08 发布于上海
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碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)试验方法 第3部分:动态栅偏.pdf

ICS31.080.01

CCSL40

中华人民共和国国家标准

GB/TXXXXX—XXXX

碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管

(SiCMOSFET)试验方法第3部分:动态

栅偏

Measurementmethodforsiliconcarbidemetal-oxide-semiconductor

field-effecttransistor(SiCMOSFET)—Part3:Dynamicgatestress

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(征求意见稿)

2026410

(本草案完成时间:年月日)

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XXXX-XX-XX发布

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