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- 2026-05-08 发布于上海
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ICS31.080.01
CCSL40
中华人民共和国国家标准
GB/TXXXXX—XXXX
碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管
(SiCMOSFET)试验方法第3部分:动态
栅偏
Measurementmethodforsiliconcarbidemetal-oxide-semiconductor
field-effecttransistor(SiCMOSFET)—Part3:Dynamicgatestress
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(征求意见稿)
2026410
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