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- 2026-05-09 发布于北京
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第16章近代章末检测卷
满分100分，考试时长90分钟
一、单选题（本题共10小题，每题4分，共40分）
1．光刻机是制造的，如图甲所示，它采用类似冲印的技术，通过去除晶圆表面保护
膜的方式，先将掩膜版上的精细图形印制到硅片上，然后将晶圆浸泡在剂中，失去保护膜的部分被腐
蚀掉后便形成电路。某光刻机使用的是真空中波长为13.5nm的极紫外线光源（EUV），如图乙所示，在光刻
1.8
胶和投影物镜之间填充了折射率为的液体用于提高光刻机投影精细图的能力，则该紫外线由真空进入液
体后（）
A
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