双通道增强型场效应晶体管沟道沟道特性与应用.pdfVIP

  • 0
  • 0
  • 约12.54万字
  • 约 18页
  • 2026-05-12 发布于北京
  • 举报

双通道增强型场效应晶体管沟道沟道特性与应用.pdf

1996年7月

N

NDS8928双通道增强型场效应晶体管(N沟道和P沟道)

概述特性

这些双N沟道和P沟道增强型功率场效应晶体管采用N沟道:5.5A,20V,R=00.035@V=45V,

DS(ON)GS

0.045@2

National专有的高单元密度DMOS技术制造。这种高R=0V=7V;P沟道:‑3.8A,‑20V,

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档