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- 2026-05-12 发布于北京
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1996年7月
N
NDS8928双通道增强型场效应晶体管(N沟道和P沟道)
概述特性
这些双N沟道和P沟道增强型功率场效应晶体管采用N沟道:5.5A,20V,R=00.035@V=45V,
DS(ON)GS
0.045@2
National专有的高单元密度DMOS技术制造。这种高R=0V=7V;P沟道:‑3.8A,‑20V,
1996年7月
N
NDS8928双通道增强型场效应晶体管(N沟道和P沟道)
概述特性
这些双N沟道和P沟道增强型功率场效应晶体管采用N沟道:5.5A,20V,R=00.035@V=45V,
DS(ON)GS
0.045@2
National专有的高单元密度DMOS技术制造。这种高R=0V=7V;P沟道:‑3.8A,‑20V,
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