CN119517721A 刻蚀设备及其控压方法 （无锡邑文微电子科技股份有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119517721A

(43)申请公布日2025.02.25

(21)申请号202510088919.9

(22)申请日2025.01.21

(71)申请人无锡邑文微电子科技股份有限公司

地址214000江苏省无锡市新吴区观山路1

号

申请人江苏邑文微电子科技有限公司

(72)发明人王显亮林洋洋杨文宾

(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司11332

专利代理师汪莉萍

(51)Int.Cl.

H01J37/32(2006.01)

H01L21/67(2006.01)

权利要求书2页说明书7页附图4页

(54)发明名称

刻蚀设备及其控压方法

(57)摘要

CN119517721A本发明涉及半导体技术领域，公开一种刻蚀设备及其控压方法。其中刻蚀设备的刻蚀主体内形成刻蚀腔体；控压单元包括上控压环和下控压环，刻蚀主体上设置有限位件，上控压环置于限位件或置于下控压环的上表面；驱动单元的驱动件用于驱动下控压环沿上下方向移动；控制单元包括检测组件，当检测组件检测到刻蚀腔体内压力为第一预设压力时，驱动件能驱动下控压环以第一预设速度移动；当检测组件检测到刻蚀腔体内压力为第二预设压力时，驱动件能驱动下控压环以第二预设速度移动，以使刻蚀腔体内气压动态稳定保持工作压力，第一