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XPS深度剖析中溅射速率的校准方法考核试卷

一、单项选择题（每题1分，共30题）

1.XPS深度剖析中，溅射速率校准的主要目的是什么？

A.提高仪器精度

B.减少样品损伤

C.增加数据采集时间

D.降低实验成本

2.在XPS溅射速率校准时，常用的溅射气体是什么？

A.氮气

B.氩气

C.氧气

D.氦气

3.XPS溅射速率校准通常使用哪种样品？

A.金片

B.铝片

C.铬片

D.铜片

4.溅射速率校准时，溅射时间的确定依据是什么？

A.样品厚度

B.仪器说明书

C.实验经验

D.理论计算

5.XPS溅射速率校准的典型溅射速率为多少？

A.0.1?/min

B.1?/min

C.10?/min

D