《超高纯金化学分析方法 第1部分：痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》标准立项修订与发展报告.docxVIP

《超高纯金化学分析方法第1部分：痕量杂质元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法》标准立项修订与发展报告T-469超高纯金化学分析方法第1部分：痕量杂质元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法标准发展报告

EnglishTitle

DevelopmentReportonStandardT-469:MethodsforChemicalAnalysisofUltra-HighPurityGold–Part1:DeterminationofTraceImpurityElementsContent–InductivelyCoupledPlasmaMassSpectrometry

摘要

随着半导体、航空航天、精密电子等高新技术产业的快速发展，对超高纯金（纯度≥99.999%）的需求日益增长，其痕量杂质元素的精确测定成为保障材料性能与产品质量的关键技术环节。本报告围绕国家标准计划《超高纯金化学分析方法第1部分：痕量杂质元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法》（计划号T-469）的制定背景、技术内容、行业需求及实施意义展开系统阐述。研究背景表明，现有金纯度分析方法在检测限、多元素同时分析能力及抗干扰性方面难以满足超高纯金的质量控制要求。本报告基于电感耦合等离子体质谱法（IC