《超高纯金化学分析方法 第2部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法》标准立项修订与发展报告.docxVIP

《超高纯金化学分析方法第2部分：痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法》标准立项修订与发展报告

GB/TT-469超高纯金化学分析方法第2部分：痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法标准发展报告

EnglishTitle:DevelopmentReportontheStandardforChemicalAnalysisMethodsofUltra-HighPurityGold–Part2:DeterminationofTraceImpurityElementContent–GlowDischargeMassSpectrometry(GB/TT-469)

摘要

本报告系统梳理了国家标准计划《超高纯金化学分析方法第2部分：痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法》（计划号T-469）的研制背景、技术内容及行业影响。随着半导体、航空航天及高端电子元器件等战略性新兴产业对超高纯金（纯度≥99.9999%）需求的激增，传统化学分析方法在痕量杂质元素检测方面面临灵敏度不足、多元素同时测定困难等瓶颈。辉光放电质谱法（GD-MS）凭借其高灵敏度、宽动态范围和固体样品直接分析的优势，已成为国际公认的超高纯材料杂质分析首选技术。本标准旨在建立基于GD-MS的超高纯金中痕量杂