Micro LED在光通信领域应用的行业研究报告:“光进铜退”趋势下Micro LED发展机遇.docxVIP

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  • 2026-05-20 发布于北京
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Micro LED在光通信领域应用的行业研究报告:“光进铜退”趋势下Micro LED发展机遇.docx

优于大势

上次评级:优于大势“光进铜退”趋势下MicroLED

上次评级:优于大势

---MicroLED在光通信领域应用的行业研究报告报告摘要:

历史收益率曲线电子沪深300100%80%60%40%20%0%-20%随着万亿参数大模型与MoE混合专家架构普及,ScaleUp单节点纵向扩展成为高密度智算核心底座,聚焦芯片间、板间、机柜内超短距(0.1~10m)紧耦合互联,承担多GPU

历史收益率曲线

电子沪深300

100%80%60%40%20%0%

-20%

2025/42025/72025/102026/1当前ScaleUp领域主流互联方案均触性能天花板:铜缆DAC成本低廉,但高频损耗严重、传输距离受限,1.6T/3.2T速率下串扰与散热问题凸显;英伟达

2025/42025/72025/102026/1

成本高昂、扩展性差,难以规模化部署;VCSEL光互连虽实现光电转换,但单通道速率瓶颈明显,高阶调制推高功耗,无法支撑海量并行通信;硅光CPO依赖激光器与硅基调制器,耦合难度大、封装成本高,更适配中长距场景,非超短距最优解。整体来看,现有技术普遍存在功耗占比过高、带宽增长受限、信号完整性不足、散热承压等共性问题,成为单节点算力扩容的核心制约。

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