CN119596651A 一种基板上ps的多次曝光的控制方法、系统及存储介质 （李明根）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119596651A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202510000574.7

(22)申请日2025.01.02

(71)申请人李明根

地址401121重庆市渝北区火峰路1号2-

27-1

(72)发明人李明根

(74)专利代理机构重庆云之汉专利代理事务所(普通合伙)50332

专利代理师陈向南

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

权利要求书3页说明书12页附图6页

(54)发明名称

一种基板上PS的多次曝光的控制方法、系统

及存储介质

(57)摘要

CN119596651A本发明涉及一种基板上PS的多次曝光的控制方法、系统及存储介质，涉及液晶显示器技术领域，其方法包括：基于预设的半色调曝光参数以对基板进行第一次曝光；于第一次曝光后对基板进行显影；于图案形成之后，对基板进行第二次曝光；基于预设的烘烤参数以对基板进行烘烤。本发明具有在制造过程中减少对PS特性产生

CN119596651A

CN119596651A权利要求书1/3页

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1.一种基板上PS的多次曝光的控制方法，其特征在于，包括：

基于预设的半色调曝光参数