CN119604966A 基板处理装置和膜厚估计方法 （东京毅力科创株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119604966A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202380051495.8

(22)申请日2023.06.28

(30)优先权数据

2022-1119752022.07.12JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.02

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0239802023.06.28

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/014294JA2024.01.18

(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本

(72)发明人丸本洋

(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277

专利代理师刘新宇李靖

(51)Int.Cl.

H01L21/306(2006.01)

G01N21/956(2006.01)

权利要求书3页说明书12页附图13页

(54)发明名称

基板处理装置和膜厚估计方法

(57)摘要

CN119604966A本公开说明一种基板处理装置和膜厚估计方法，即使在存在干扰的环境下也能够高精度地估计在蚀刻处理过程中时刻地变化的膜厚。基板处理装置具备保持部、供给部、光传感器、以及控制部。控制部构成为执行以下处理：第一处理，对保持于保持部的基板的表面供给蚀